電子行業等工業高純水工藝流程

發布日期：2011-4-8 閱覽數：4857次

電子行業等工業純水工藝流程

 該工藝采用YMRO-EDI系列電子超純水設備，適用于計算機硬盤，集成電路芯片，半導體，顯像管，液晶顯示器，線路板等工藝用的純水，超純水。，采用世界上最先進的美國反滲透元件，壓力容器，高壓泵設備，配以先進而又合理的預處理和后級處理備，生產出符合電子生產標準的水。控制部份采用進口PLC控制，可實現自動起停，加藥，及沖洗，自動監測各種運行參數，并可實現運行參數的存儲和打印。

功能

     脫鹽率高，運行壓力低的進口超低卷式復合反滲透膜，產水水質優良，運行成本低廉，使用壽命長。
      高效率，低噪音，品質優越的進口高壓泵，減少能耗，降低運行噪聲。
      進口在線原水及產品水電導儀，PH表可隨時監測水質情況。
      進口在線產品水，濃水流量計可隨時監測產品水量及系統回收率。
      配置自動循環沖洗系統，以備膜污染后清洗之用。
      快沖閥定時沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長使用壽命。
      降TOC紫外線 裝置可有效降低TOC90%。
      膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。

運行參數

     單機出力：0.5M³/h-120M³/h
      脫鹽率：反滲透系統98%
      操作壓力：1Mpa-1.2Mpa
      回收率：60%-80%
      產品出水電陰率：16-18MΩ.cm